题 目：划痕及热对磁记录硬盘磁性影响的研究

时 间：10月16日（星期三） 晚上7:30

地 点: 中心三楼轴承所会议室

报告人：博士生 杨雷（学号4110001058）

留学学校：加州大学圣地亚哥分校（美国）

指导老师：刁东风 教授

国外导师：Prof. Frank E. Talke

报告摘要：

随着硬盘存储密度的不断提高，磁头与磁盘的间隙越来越小，这导致硬盘在工作过程中磁头与磁盘发生接触的机率增加。磁头与磁盘接触可能会在磁盘表面产生划痕，从而影响磁记录介质的磁性，导致硬盘发生数据丢失和退磁。同时随着热飞行高度控制技术以及热辅助磁记录技术的开发，热对于磁记录介质磁性的影响也成为研究热点。本研究采用磁光克尔效应系统测量了磁盘划痕区域磁性变化，同时采用磁力显微镜测量温度导致的磁记录介质磁性变化。报告中将具体介绍研究课题及结果，并简单介绍在美国的学习和生活情况。

欢迎有兴趣的同学届时听讲座。